產(chǎn)品展示

原位顯微成像氣相沉積系統(tǒng)

型號(hào)：FE-900

▲ 900℃材料生長(zhǎng)環(huán)境可視化實(shí)時(shí)觀(guān)測(cè)

▲ 樣品可移動(dòng) / 觀(guān)測(cè)感興趣的區(qū)域

▲ 完美兼容現(xiàn)有的管式爐生長(zhǎng)系統(tǒng)

▲ 可靠的隔熱系統(tǒng) / 設(shè)備表面溫度接近室溫

產(chǎn)品細(xì)節(jié)

用途說(shuō)明

本系統(tǒng)在化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)內(nèi)集成獨(dú)有的耐高溫顯微成像系統(tǒng),，能夠?qū)崿F(xiàn)材料生長(zhǎng)過(guò)程的原位高分辨光學(xué)成像，從而獲得材料生長(zhǎng)速率、微觀(guān)形貌等參數(shù)的實(shí)時(shí)信息,，為剖析材料生長(zhǎng)機(jī)理機(jī)制,、改進(jìn)材料生長(zhǎng)工藝提供精確數(shù)據(jù),。

應(yīng)用范圍

二維材料生長(zhǎng),、薄膜生長(zhǎng),、納米/微米線(xiàn)生長(zhǎng)等,。

設(shè)備示意圖

成像效果

技術(shù)參數(shù)

加熱溫區(qū)雙溫區(qū)
溫區(qū)恒溫總長(zhǎng)度40cm
控溫精度±1℃
石英管尺寸圓形部分1英寸直徑,，矩形部分邊長(zhǎng)2cm×3cm（可定制其它尺寸）
顯微光學(xué)成像溫區(qū)第1溫區(qū)（左溫區(qū)）
顯微成像最高工作溫度900℃
成像波長(zhǎng)532nm或488nm
物鏡工作距離20mm
成像分辨率1.5μm
視野全視野尺寸：>600μm×400μm
高分辨率區(qū)域尺寸：>200μm×200μm
相機(jī)數(shù)據(jù)位數(shù)黑白12位
爐體尺寸700mm×400mm×700mm
光學(xué)平臺(tái)臺(tái)面尺寸1500mm×600mm×150mm
爐體重量~100kg
光學(xué)平臺(tái)重量~150kg
供電電壓220V
最大功率5kW
環(huán)境工作溫度5-40℃
環(huán)境工作濕度<80%

應(yīng)用案例

?單層過(guò)渡金屬液相邊緣外延生長(zhǎng)研究

??LPEE過(guò)程實(shí)時(shí)光學(xué)特征

??案例文獻(xiàn)

Liquid Phase Edge Epitaxy of Transition-Metal Dichalcogenide Monolayers

Cite This: https://doi.org/10.1021/jacs.3c02471

J. Am. Chem. Soc.

成像系統(tǒng)拓展應(yīng)用

成像系統(tǒng)可拓展應(yīng)用于高溫?zé)Y(jié)系統(tǒng)、高溫刻蝕系統(tǒng),、高溫鍍膜系統(tǒng)以及其他高溫顯微需求的領(lǐng)域,。

*支持定制：2英寸爐、4英寸爐,、電動(dòng)控制及其他特殊需求,，具體配置需求歡迎來(lái)電交流。

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